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Hochleistungsfähiges elektrostatisches Spannfutter aus Aluminiumnitrid für Halbleiteranwendungen

2024,01,23

Hochleistungsfähiges elektrostatisches Spannfutter aus Aluminiumnitrid für fortgeschrittene Halbleiteranwendungen

Da Halbleiterknoten schrumpfen und Plasmaprozesse intensiver werden, fordern Gerätehersteller und Fabrikbesitzer Komponenten, die extreme Präzision, außergewöhnliche Wärmekontrolle und langfristige Zuverlässigkeit bieten. Shaanxi Puwei Electronic Technology Co., Ltd. begegnet diesen Herausforderungen mit unserem elektrostatischen Aluminiumnitrid-Spannfutter der nächsten Generation – entwickelt, um den strengen Anforderungen von Leistungsgeräten, LED-Herstellung, Mikrowellen-HF-Schaltkreisen und Automobilelektronik gerecht zu werden.

Warum Aluminiumnitrid? Entscheidende Vorteile für die Halbleiterverarbeitung

Unser elektrostatisches AlN-Spannfutter ist darauf ausgelegt, in hochpräzisen Umgebungen hervorragende Leistungen zu erbringen und kritische Schwachstellen für Hersteller zu lösen, die eine verbesserte Prozesskontrolle und niedrigere Betriebskosten anstreben.

Puwei AlN Electrostatic Chuck for Wafer Clamping and Thermal Management

Entwickelte Eigenschaften für Spitzenleistung

  • Hervorragende Wärmeleitfähigkeit (170 W/m·K): Ermöglicht eine schnelle, gleichmäßige Wärmeableitung beim Ätzen und Abscheiden und sorgt so für eine konstante Wafertemperatur – unerlässlich für die Verarbeitung von Leistungshalbleiter-Keramiksubstraten mit hoher Ausbeute.
  • Hohe elektrische Isolierung / niedrige Dielektrizitätskonstante (8–9 MHz): Bietet stabile Isolierung und minimiert Signalverluste in Kammern mit hoher HF-Dichte, was eine präzise Klemmung und einen zuverlässigen Betrieb unterstützt.
  • Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient (angepasst an Si): Ihmt die Ausdehnung von Silizium genau nach und reduziert die Waferspannung und -verbiegung während des Temperaturwechsels – ein Schlüsselfaktor für IGBT-Keramiksubstrate und fortschrittliche Knotenlithographie.
  • Thermische Stabilität und Schockfestigkeit: Behält die Ebenheit und strukturelle Integrität auch bei extremen Temperaturgradienten bei und garantiert so eine Ausrichtungsgenauigkeit im Nanomaßstab.
  • Korrosionsbeständigkeit in Plasmaumgebungen: Widersteht aggressiven Fluor- und Chlorchemikalien, verlängert die Lebensdauer der Kammerteile und reduziert die Partikelkontamination.
  • Gute Metallisierungskompatibilität: Die Oberflächenbeschaffenheit unseres AlN-Keramiksubstrats unterstützt eine robuste Dünnschichtmetallisierung und ermöglicht eingebettete Elektrodenmuster und Mehrzonenheizung.

Produktspezifikationen: Präzisions-AlN-Substrate für kritische Werkzeuge

Unsere elektrostatischen Spannfutter aus AlN werden mit strengen Toleranzen hergestellt und sind für die OEM-Integration vollständig kundenspezifisch anpassbar. Ob Sie einen Standarddurchmesser oder eine komplexe Geometrie benötigen, Puwei liefert.

  • Material: Hochreines Aluminiumnitrid (AlN) – AlN-Keramiksubstratqualität
  • Funktion: Elektrostatische Klemmung, Hochspannungsisolierung und effiziente Wärmeableitung
  • Farbe: Grau
  • Typ: Fortschrittliche technische Keramik für Teile von Halbleitergeräten
  • Dichte: 3,3 g/cm³
  • Anpassung: Unterstützt durch detaillierte Zeichnungen – wir freuen uns über OEM-Bestellungen, einschließlich Variationen für AlN-Substrate mit hoher Wärmeleitfähigkeit und AlN-Keramik-Leiterplattendesigns .

Für weitere Informationen zu unserem elektrostatischen Aluminiumnitrid-Chuck oder verwandten Produkten wie AlN-Keramikscheiben, AlN-Substraten mit hoher Wärmeleitfähigkeit und Leistungshalbleiter-Keramiksubstraten wenden Sie sich noch heute an Shaanxi Puwei Electronic Technology Co., Ltd. Teilen Sie uns Ihre Anforderungen mit und unser Expertenteam bietet maßgeschneiderte Lösungen zur Steigerung Ihrer Fertigungseffizienz und Ausbeute.

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Autor:

Mr. sxpw

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