Shaanxi Puwei Electronic Technology Co., Ltd

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Siliziumkarbid-SiC-Keramik-Trägerplatte
Siliziumkarbid-SiC-Keramik-Trägerplatte
Siliziumkarbid-SiC-Keramik-Trägerplatte
Siliziumkarbid-SiC-Keramik-Trägerplatte

Siliziumkarbid-SiC-Keramik-Trägerplatte

  • $5

    ≥50 Piece/Pieces

Schatten:
  • Zahlungsart: T/T
  • Incoterm: FOB,CIF,EXW
  • Minimum der Bestellmenge: 50 Piece/Pieces
  • Transport: Ocean,Air,Express
  • Hafen: Shanghai,Beijing,Xi’an
Beschreibung
Produkteigenschaften

MarkePuwei-Keramik

HerkunftsortChina

Arten VonHochfrequenzkeramik

MaterialSiliziumkarbid

Silizium -Carbid -TrägerscheibeSilizium -Carbid -Keramikträger -Tablettscheibe

Verpackung & Lieferung
Verkaufseinheiten: Piece/Pieces
Pakettyp: Keramiksubstrate werden in Kartons mit Kunststoffeinlage verpackt, um Kratzer und Feuchtigkeit zu verhindern. Stabile Kartons werden auf Paletten gestapelt und mit Spanngurten oder Schrumpffolie gesichert. Dies gewährleistet Stabilität, einfache Handhabun
Bildbeispiel:
Lieferfähigkeit & Zusatzinformationen

VerpakungKeramiksubstrate werden in Kartons mit Kunststoffeinlage verpackt, um Kratzer und Feuchtigkeit zu verhindern. Stabile Kartons werden auf Paletten gestapelt und mit Spanngurten oder Schrumpffolie gesichert. Dies gewährleistet Stabilität, einfache Handhabun

Produktivität1000000

TransportOcean,Air,Express

Ort Von ZukunftChina

Unterstützung überThe annual production of ceramic structural components are 200000 pieces.

Zertifikate GXLH41023Q10642R0S

HafenShanghai,Beijing,Xi’an

ZahlungsartT/T

IncotermFOB,CIF,EXW

Produktbeschreibung

Trägerplatte aus Siliziumkarbid (SiC)-Keramik

Produktübersicht

Die Keramik-Trägerplatte aus Siliziumkarbid (SiC) von Puwei stellt fortschrittliche Hochleistungskomponenten dar, die für Präzisionsindustrien wie Halbleiterfertigung, Optoelektronik und Luft- und Raumfahrt unerlässlich sind. Diese Tabletts wurden für außergewöhnliche thermische Stabilität, chemische Beständigkeit und mechanische Haltbarkeit entwickelt und gewährleisten eine kontaminationsfreie Handhabung und Hochtemperaturbeständigkeit in kritischen Prozessen.

Technische Spezifikationen

Material- und Leistungsparameter

  • Basismaterial: Hochreines Siliziumkarbid (SiC)
  • Maximale Betriebstemperatur: >1600 °C für extreme thermische Anwendungen
  • Wärmeleitfähigkeit: 120–200 W/m·K für effiziente Wärmeableitung
  • Härte: >2500 HV (Vickers-Härte) – an zweiter Stelle nach Diamant
  • Oberflächenebenheit: <10 µm Abweichung für Präzisionsanwendungen
  • Standardgrößenbereich: Kundenspezifische Durchmesser von 100 mm bis 400 mm
  • Elektrischer Widerstand: >10¹⁰ Ω·cm für hervorragende Isolierung
  • Chemische Beständigkeit: Außergewöhnliche Beständigkeit gegen Säuren, Laugen und Lösungsmittel

Hauptmerkmale und Vorteile

  • Ultrahohe Temperaturbeständigkeit: Widersteht anhaltenden Temperaturen über 1600 °C, ideal für Halbleiter-Glüh- und Diffusionsprozesse
  • Außergewöhnliche chemische Inertheit: Beständig gegen Säuren, Laugen und Lösungsmittel und verhindert Verunreinigungen während Ätz- oder Reinigungszyklen
  • Überragende mechanische Festigkeit: Die Härte, die nur die von Diamant übersteigt, sorgt für minimale Verformung bei mechanischer Belastung
  • Hervorragende elektrische Isolierung: Isoliert Wafer vor elektrischen Störungen, die für die Halbleiterintegrität entscheidend sind
  • Verbessertes Wärmemanagement: Überlegene Wärmeleitfähigkeit im Vergleich zu herkömmlichen Aluminiumoxidschalen
  • Lange Lebensdauer: 5-mal längere Lebensdauer als Schalen auf Aluminiumoxidbasis bei anspruchsvollen Anwendungen

Implementierungs- und Nutzungsrichtlinien

  1. Inspektion vor der Verwendung: Überprüfen Sie vor dem Beladen die Sauberkeit des Tabletts und die Ebenheit der Oberfläche
  2. Richtige Beladung: Platzieren Sie Wafer oder Komponenten gleichmäßig, um Spannungskonzentrationen zu vermeiden
  3. Prozessintegration: Transport des Tabletts durch Hochtemperaturöfen oder chemische Bäder gemäß etablierten Protokollen
  4. Thermal Cycle: Implementieren Sie kontrollierte Heiz- und Kühlzyklen, um die Lebensdauer der Schale zu maximieren
  5. Regelmäßige Wartung: Mit entionisiertem Wasser oder milden Lösungsmitteln reinigen, dabei Scheuermittel vermeiden
  6. Leistungsüberwachung: Regelmäßige Inspektion auf Verschleiß und Oberflächenintegrität

Anwendungsszenarien

Halbleiterfertigung

Entscheidend für Wafer-Glüh-, Ätz- und CVD-Prozesse, bei denen eine Positionsgenauigkeit innerhalb von 1 µm unerlässlich ist. Die thermische Stabilität und Kontaminationsbeständigkeit des Tabletts reduzieren Fehler in Produktionslinien mit hoher Ausbeute für die Verpackung und Geräteherstellung der Mikroelektronik .

Optoelektronik und LED-Herstellung

Bietet eine kontaminationsfreie Basis für die Herstellung von LEDs und Laserdioden und nutzt eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit, um die Wärme in optoelektronischen Anwendungen, die ein präzises Wärmemanagement erfordern, effektiv abzuleiten.

Luft- und Raumfahrt- und Verteidigungssysteme

Schützt empfindliche Elektronik in Satelliten und Raketen vor extremen Temperaturen und Strahlung und übertrifft herkömmliche Materialien in anspruchsvollen Luft- und Raumfahrtumgebungen, in denen Zuverlässigkeit von größter Bedeutung ist.

Leistungselektronik und Energiesysteme

Wird in Herstellungsprozessen für mikroelektronische Hochleistungskomponenten und Leistungsgeräte verwendet, bei denen Hochtemperaturverarbeitung und Kontaminationskontrolle für die Geräteleistung und -zuverlässigkeit von entscheidender Bedeutung sind.

Kundennutzen und ROI

  • Verlängerte Lebensdauer: 5-mal längere Betriebslebensdauer als Tabletts auf Aluminiumoxidbasis, was die Austauschhäufigkeit und -kosten erheblich reduziert
  • Erhöhte Produktionsausbeute: Minimiert Waferbruch und Verunreinigungen und steigert die Produktionseffizienz um bis zu 15 %.
  • Verbesserte Energieeffizienz: Eine hohe Wärmeleitfähigkeit verkürzt die Aufheizzeiten des Prozesses und senkt den Energieverbrauch
  • Reduzierte Wartungskosten: Außergewöhnliche Verschleißfestigkeit und chemische Inertheit verringern den Wartungsaufwand
  • Überragende Prozessstabilität: Eine konstante Leistung über alle thermischen Zyklen hinweg gewährleistet zuverlässige Herstellungsprozesse
  • Kontaminationskontrolle: Unverzichtbar für sensible Prozesse in Halbleiter- und Elektronikverpackungsanwendungen

Qualitätssicherung und Compliance

Die SiC-Trägerplatte von Puwei Ceramic entspricht den Qualitätsstandards ISO 9001 und verfügt über das Copyright-Zertifikat für die Keramik-Kühlkörperoberfläche. Unsere Herstellungsprozesse gewährleisten die vollständige Einhaltung der RoHS- und REACH-Umweltrichtlinien und garantieren so Produktqualität und weltweite Akzeptanz für kritische Anwendungen.

Anpassungsdienste

Wir bieten umfassende OEM- und ODM-Dienstleistungen mit umfangreichen Anpassungsmöglichkeiten, einschließlich Maßanpassung von 0,2 mm bis 2,00 mm Dicke, kundenspezifischen Durchmessern bis zu 400 mm, speziellen Oberflächenveredelungen, Rillenmustern und optionaler Metallisierung für spezifische Anwendungsanforderungen. Unsere Expertise im Bereich großformatiger Keramik ermöglicht komplexe Designs, die auf individuelle Verarbeitungsanforderungen zugeschnitten sind.

Hervorragende Fertigungsqualität

  1. Pulveraufbereitung: Auswahl hochreiner SiC-Pulver und präzises Mischen mit Bindemitteln
  2. Präzisionsformen: Trockenpressen oder Spritzgießen, um Schalen mit genauen Abmessungen zu formen
  3. Hochtemperatursintern: Kontrolliertes Brennen bei über 2000 °C, um optimale Dichte und Eigenschaften zu erreichen
  4. CNC-Bearbeitung: Präzises Schleifen und Endbearbeiten, um Genauigkeit und Oberflächenqualität im Mikrometerbereich sicherzustellen
  5. Umfassende Qualitätskontrolle: Jede Schale wird einer Prüfung auf Ebenheit, Porosität und mechanische Festigkeit unterzogen
  6. Endkontrolle: Sichtprüfung und Leistungsüberprüfung vor dem Verpacken

Technische Expertise

Mit umfassender Spezialisierung auf fortschrittliche Keramikmaterialien und Präzisionsfertigung liefert Puwei zuverlässige, leistungsstarke SiC-Trägerplatten für die anspruchsvollsten Halbleiter- und Industrieanwendungen. Unser Fachwissen in Materialwissenschaften und -technik gewährleistet optimale Lösungen für die Hochtemperaturverarbeitung, Kontaminationskontrolle und langfristige Zuverlässigkeit in kritischen Fertigungsumgebungen.

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